一年一度的國(guó)際商標(biāo)協(xié)會(huì)（INTA）年會(huì)是全球商標(biāo)界的盛會(huì)。今年5月4日至8日，INTA第135屆年會(huì)在美國(guó)德克薩斯州達(dá)拉斯市舉辦，該屆年會(huì)主要活動(dòng)場(chǎng)所包括達(dá)拉斯會(huì)議中心與奧尼（Omni）達(dá)拉斯酒店。除了設(shè)置了主會(huì)場(chǎng)活動(dòng)外，年會(huì)組委會(huì)還為參會(huì)者組織了各類(lèi)論壇、講座、培訓(xùn)及多種互動(dòng)會(huì)議。

       公司自成立以來(lái)，一直參加INTA年會(huì)活動(dòng)。今年是第一次由高沃李總和總經(jīng)理帶隊(duì)，并舉辦現(xiàn)場(chǎng)展臺(tái)。在主會(huì)場(chǎng)活動(dòng)中，我公司代表就商標(biāo)注冊(cè)、使用和保護(hù)等問(wèn)題做了專(zhuān)題發(fā)言。并與世界各國(guó)商標(biāo)界人士，共同交流、探討與商標(biāo)相關(guān)的實(shí)務(wù)和經(jīng)驗(yàn)。

       通過(guò)INTA 2013年會(huì)及展覽，高沃與各國(guó)參會(huì)代表建立了廣泛的業(yè)務(wù)聯(lián)系，增進(jìn)了與國(guó)際同行間的相互了解與信任，成果頗豐，為高沃進(jìn)一步開(kāi)展國(guó)際業(yè)務(wù)合作奠定了堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ)，創(chuàng)造了更大的發(fā)展空間。